Efremov, A. M., Betelin, V. B., Mednikov, K. A., & Kwon, K.-H. (2021). GAS-PHASE PARAMETERS AND REACTIVE-ION ETCHING REGIMES FOR Si AND SiO2 IN BINARY Ar + CF4/C4F8 MIXTURES. ИЗВЕСТИЯ ВЫСШИХ УЧЕБНЫХ ЗАВЕДЕНИЙ. СЕРИЯ «ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ», 64(6), 25-34. https://doi.org/10.6060/ivkkt.20216406.6377