EFREMOV, A. M.; BETELIN, V. B.; MEDNIKOV, K. A.; KWON, K.-H. GAS-PHASE PARAMETERS AND REACTIVE-ION ETCHING REGIMES FOR Si AND SiO2 IN BINARY Ar + CF4/C4F8 MIXTURES. ИЗВЕСТИЯ ВЫСШИХ УЧЕБНЫХ ЗАВЕДЕНИЙ. СЕРИЯ «ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ», v. 64, n. 6, p. 25-34, 15 май 2021.