Efremov, Alexander M., Vladimir B. Betelin, Konstantin A. Mednikov, и Kwang-Ho Kwon. 2021. «GAS-PHASE PARAMETERS AND REACTIVE-ION ETCHING REGIMES FOR Si AND SiO2 IN BINARY Ar + CF4/C4F8 MIXTURES». ИЗВЕСТИЯ ВЫСШИХ УЧЕБНЫХ ЗАВЕДЕНИЙ. СЕРИЯ «ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ» 64 (6), 25-34. https://doi.org/10.6060/ivkkt.20216406.6377.