Efremov, A. M., V. B. Betelin, K. A. Mednikov, и K.-H. Kwon. «GAS-PHASE PARAMETERS AND REACTIVE-ION ETCHING REGIMES FOR Si AND SiO2 IN BINARY Ar + CF4/C4F8 MIXTURES». ИЗВЕСТИЯ ВЫСШИХ УЧЕБНЫХ ЗАВЕДЕНИЙ. СЕРИЯ «ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ», т. 64, вып. 6, май 2021 г., сс. 25-34, doi:10.6060/ivkkt.20216406.6377.