[1]
Efremov, A.M., Betelin, V.B. и Kwon, K.-H. 2020. ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ И КИНЕТИКА ТРАВЛЕНИЯ SiO2 В СМЕСИ C4F8 + Ar + O2. ИЗВЕСТИЯ ВЫСШИХ УЧЕБНЫХ ЗАВЕДЕНИЙ. СЕРИЯ «ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ». 63, 6 (май 2020), 37-43. DOI:https://doi.org/10.6060/ivkkt.20206306.6163.