Efremov AM, Betelin VB, Kwon K-H. ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ И КИНЕТИКА ТРАВЛЕНИЯ SiO2 В СМЕСИ C4F8 + Ar + O2. ХИХТ [Интернет]. 13 май 2020 г. [цитируется по 21 ноябрь 2024 г.];63(6):37-3. доступно на: https://ctj-isuct.ru/article/view/1743