Efremov AM, Betelin VB, Mednikov KA, Kwon K-H. GAS-PHASE PARAMETERS AND REACTIVE-ION ETCHING REGIMES FOR Si AND SiO2 IN BINARY Ar + CF4/C4F8 MIXTURES. ХИХТ [Интернет]. 15 май 2021 г. [цитируется по 26 декабрь 2024 г.];64(6):25-4. доступно на: https://ctj-isuct.ru/article/view/3316